原子层沉积纳米薄膜技术与应用

活动时间： 04月15日16时30分       

地            点  ： 理科群2号楼B409

讲座内容：

原子层沉积（ALD）是一种重要的气相沉积制备纳米薄膜的技术，所制的薄膜保形性高，成分和厚度在原子层尺度精确可控，具有广泛的学术研究和工业应用价值。本报告将简单介绍原子层沉积技术的基本原理和要点，并报告我们在该技术的新方法研发方面的最新进展，包括过渡金属硫化物、碳化物等材料的新型原子层沉积工艺研发，以及它们在电催化等能源领域和有机电子领域的应用。

主讲人介绍：

王新炜，北京大学深圳研究院新材料学院，北京大学“百人计划”特聘研究员、博士生导师。北京大学物理学学士，美国哈佛大学化学硕士、化学物理学博士。从事了多年的原子层沉积技术制备纳米薄膜的基础方法学和应用研究，研究成果在JACS、AngewChemInt Ed、Adv Mater、AdvFunct Mater、Nano Lett等国际学术期刊上发表70余篇论文。

发布时间：2019-04-11 16:32:38