我校微电子研究所参加2015年中国平坦化技术大会暨海峡两岸平坦化技术论坛

04.06.2015  21:24
  5月28日、29日,由中国平坦化技术联盟主办、清华大学承办的2015年中国平坦化技术大会暨海峡两岸平坦化技术论坛在清华大学举行。包括我校微电子技术与材料研究所22名师生在内的平坦化技术相关领域的专家、学者和研究生一百余人参加了此次大会。我校刘玉岭教授被选为由院士、知名专家等组成的咨询委员会委员。张保国教授被选为大会副主席,同时被选为国际平坦化协会(ICPT)程序委员会委员。 在为期两天的会议议程中,海峡两岸平坦化领域著名专家、学者和业界代表为大家做了35场学术报告,其中包括我校微电子研究所的6篇报告。此外,还有22位与会者进行了张贴交流,其中包括我校微电子研究所的13篇张贴。各界专家学者围绕平坦化技术的机遇和挑战,就化学机械平坦化(CMP)前沿技术、抛光设备、抛光工艺与后清洗、CMP耗材、CMP机理与仿真、硬质材料CMP等重要议题,分享研究和思考取得了一系列重要的交流成果。